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吳永芳
2025-07-22 09:58
芯源微已經成為國內唯一可提供量產型中高端涂膠顯影設備的企業。
光刻工序是集成電路制造的重中之重，占據產線上50%的時間和30%的成本。它也是整條芯片產線上國產設備替代率最低的工藝環節——前道光刻機國產替代率不足3%，而產線上唯一與其聯機作業的前道涂膠顯影設備，長期被日本企業高度壟斷，國產替代率不足10%。
涂膠顯影機與光刻機、光刻膠被稱為光刻工序的三大要素。芯源微立足自主研發，深度耕耘，已經成為國內唯一可提供量產型中高端涂膠顯影設備的企業。
“芯源微是沈陽IC裝備產業聯盟的先鋒。2002年芯源微創立時，國內半導體市場還沒有形成，沒有產品、沒有供應鏈，最重要的是沒有市場、沒有客戶。”芯源微創始人、榮譽董事長宗潤福表示。芯源微立足自主研發，頑強地活了下來，從4寸、6寸做到8寸、12寸，從LED做到后道先進封裝、做到前道領域。2019年芯源微在上交所科創板成功上市，是“遼寧省科創板第一股”，目前已經發展成為國內涂膠顯影細分領域龍頭企業。
芯源微在國產替代的道路上披荊斬棘，克服了重重艱難險阻：
一是涂膠顯影設備本身的高度復雜性。從設備結構看，最先進的涂膠顯影機有超過150個單元，10余個機械手，每小時進行上萬次機電動作。從工藝難度看，涂膠就像在足球場上鋪地板，高低差要控制在一根頭發絲以內。
二是涂膠顯影機要與芯片產線上最昂貴、最重要的光刻機聯機作業。宗潤福表示：“聯機驗證難，更重要的是決不能拖累光刻機，我們必須對產品的產能、良率和可靠性有高要求。”
三是日系設備起步早、積累深厚，對國內市場形成高度壟斷，壟斷率超過90%。隨著研發進程持續推進，產品迭代突破，芯源微將進一步推進國產替代進程。
國產替代率低意味著發展空間極大。芯源微的前道設備已經覆蓋了28納米以上所有工藝節點，覆蓋了中國半導體90%以上的成熟工藝。其中，前道物理清洗設備已經達到國際先進水平，成功實現國產替代，國內市占率第一；前道化學清洗設備聚焦先進制程，瞄準國外長期壟斷環節，芯源微已成為國內首個通過高溫硫酸清洗工藝驗證并獲得重復訂單的企業。在后道先進封裝領域，芯源微作為成套工藝設備提供商，產品市占率超過50%，成為客戶端主力量產設備商，同時持續布局2.5D、3D封裝等新興領域，發展新增長點。
在談到為什么“六小虎”能在沈陽發展壯大時，宗潤福表示：“遼沈的裝備制造業有產業基礎和配套優勢，沈陽的人才既穩定，又具備工匠精神、研發精神。在省市區各級政府的有機組織與持續支持下，沈陽零部件與半導體裝備在全國范圍內都具備一定影響力。”
芯源微立足遼沈，堅定自主研發，研發費用連續多年保持在營業收入的10%以上。2024年，其研發投入達2.97億元，同比增加近50%。技術上的研發突破，即將批量轉化為市場上的累累碩果。
校對：冉燕青
